후쿠시마 원전사고 1년이 지난 지금도 후쿠시마 피해 지역의 복구가 미진해 우리나라에서도 우려의 목소리가 큰 가운데 특허청이 방사능에 오염된 시설이나 토양 등으로부터 방사성 물질을 제거하는 기술에 관한 특허출원 현황을 발표했다.

특허청에 따르면 이 기술에 관해 최근 10년 간 170건의 특허가 출원됐다. 지난 2002∼2005년에는 매년 9건 정도가 출원됐으나 2006∼2011년에는 매년 23건 정도가 출원되돼 2006년 이후 출원 건수가 증가하고 있다.

기술 분야별로는 기계적 방법(82건, 48%), 화학적 방법(66건, 39%), 전기화학적 방법(22건, 13%) 순으로 출원 건수가 많았다. 출원인별로는 대부분의 출원인이 내국인(145건, 85%)인 것으로 나타나 우리나라가 상당한 기술력을 축적하고 있는 것으로 평가됐다.

기계적 방법은 절삭공구를 이용해 오염된 시설이나 토양의 표면을 직접 깎아내는 것이고 화학적 방법은 오염된 시설이나 토양의 표면에 시약을 접촉시켜 화학반응을 일으켜 오염 물질을 분리하는 것이다.

전기화학적 방법은 오염된 토양 등에 전극을 삽입하고 전류를 흘려 오염 물질을 분리하는 것이다. 특히 전기화학적 방법은 2007∼2009년 사이에 내국인에 의해 많이 출원됐고 우리나라 일부 기업이 이 기술을 이용해 후쿠시마의 방사성 물질 제거 작업에 참여하고자 했으나 일본 측 사정으로 현재는 참여가 보류된 상태다.

특허청 관계자는 “원전 사고의 가능성은 항상 존재하므로 앞으로 원전 사고에 대해 신속하고 효율적으로 대처할 수 있는 기술 개발이 지속적으로 이뤄져야 할 것”이라고 말했다.

최덕환 기자 다른기사 보기