어플라이드머티어리얼즈, 포토마스크 식각 장비 출시
어플라이드머티어리얼즈, 포토마스크 식각 장비 출시
  • 남수정 기자
  • 승인 2015.04.21 09:30
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업계 최초 멀티플 패터닝 확장 가능 '장점'
▲ 어플라이드머티어리얼즈가 새로 선보인 포토마스트 식각 장비 '센츄라 테트라 Z'

[한국에너지] 어플라이드머티어리얼즈는 10나노 및 그 이하 나노의 지속적인 멀티플 패터닝 스케일링에 요구되는 차세대 광학 리소그래피(lithographic) 포토마스크의 식각을 위한 ‘센츄라 테트라 Z 포토마스크 식각 장비(Centura® Tetra™ Z Photomask Etch System)’를 발표했다고 21일 밝혔다.

‘센츄라 테트라 Z 포토마스크 식각 장비’는 로직과 메모리 디바이스를 위해 패터닝 사양을 충족시키는데 필요한 포토마스크 임계치수(CD: critical dimension) 변수(parameters)에 옹스트롬 레벨(angstrom-level)의 정확성을 제공한다고 회사는 설명했다.

이를 통해 어플라이드머티어리얼즈의 테트라(Tetra) 플랫폼의 기능을 한층 더 확장해 준다. 테트라 장비는 지난 10여년 동안 전세계 대부분의 마스크 제조업체들의 포토마스크 식각에 사용돼 왔다.

어플라이드머티어리얼즈는 차세대 크롬(chrome), MoSi(molybdenum silicon oxynitride) 및 하드마스크, 그리고 2원소(binary)와 위상반전마스크(PSMs: phase-shift masks)를 제작하는데 사용되는 석영(fused silica: 용융 실리카) 식각 애플리케이션을 위해 ‘테트라Z’를 개발했다.

지속적인 기술 혁신과 전례 없는 임계치수 성능을 제공하는 이 장비는 4중 패터닝 및 최첨단 해상도의 향상을 위해 이머전(immersion) 리소그래피를 확장해 준다.

또한, 패턴 전사(transfer)의 충실도를 보장하는필수 성능들은 모든 크기의 피처(feature)들을 균일하고 직선으로 정밀하게 식각하는 기능과 사실상 무결점 상태의 패턴 밀도를 포함한다.

식각의 높은 선별성과 결합된 우수한 임계치수 성능은 주요 디바이스 층에 더욱 작은 포토마스크 임계치수 패턴을 달성하기 위해 얇은 레지스트(resist) 필름의 사용을 가능하게 하며, 제어 가능한 임계치수 바이어스(bias) 기능은 고객의 특정 요구사항을 충족시킬 수 있도록 유연성을 확장시킨다.

또한, 유일하게 석영(quartz) 식각의 깊이를 제어하는 ‘센츄라 테트라 Z’의 기술은 AAPSMs(alternating aperture PSMs)와 무크롬 상 리소그래피(chromeless phase lithography)를 사용하기 위한기능을 제공함으로써 정밀 위상 각도를 보장하고 통합된 회로 스케일링을 지원한다.

이는 챔버(chamber)의 디자인, 플라즈마의 안정성, 이온(ion) 및 라디칼(radical)의 제어, 흐름 및 압력의 제어, 실시간 공정 모니터링 및 제어에서의 다양한 시스템 개선이 바탕이 됐다.

어플라이드머티어리얼즈 마스크 식각 장비 부서(Applied’s Mask Etch product division) 의 총괄 책임자 라오 야라만치리(Rao Yalamanchili)는 “테트라 Z는 193나노 리소그래피의 사용을 넓히기 위해 정밀재료공학 및 플라즈마 반응 속도론의 발전을 이용하는 최첨단 포토마스크 식각 기술”이라고 설명했다.

그는 이어 “193나노 파장을 사용해 10나노 또는 7나노 패턴을 생산하기 위해서는 포토마스크에 의존도가 높은 이머전과 멀티플 패터닝을 포함하는 최적의 기술을 필요로 한다"면서 "식각 기술은 포토마스크 제작을 위한 핵심 기술이며, 테트라 Z는 진보된 노드 설계의 패터닝을 위한 차세대 광학 포토마스크를 식각하기 위해 요구되는 정확성을 제공하는 유일한 장비”라고 강조했다.


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