독일 태양광장비 전문기업인 리나(RENA)의 한국지사인 리나코리아(지사장 신재호, 게하르트 빌스마이어)는 오는 11월 23일 제4회 기술세미나를 열고 태양전지용 웨이퍼·셀 제조 장비에 대한 최신 기술을 소개한다.

전세계 태양광 시장은 ‘20% 이상 고효율’과 ‘생산단가 인하’ 실현을 위해 총력을 기울이고 있다. 리나(RENA)는 이같은 시장의 요구에 발빠르게 대응하면서 업계의 주목을 받고 있다.

지속적인 자체 연구개발(R&D)과 관련 기업과의 협력을 바탕으로 최근 각광받고 있는 'PERC 및 n-타입 셀(n-type cell) 제조에 필요한 기술과 최신 도금기술‘을 출시한 것.

리나에서 지난해 말 인수한 솔레이텍(SolayTec)사의 Al₂O₃막 증착용 ‘아토믹 레이어 데포지션(Atomic Layer Deposition, ALD)’ 장비는 가장 빠른 증착 스피드(1nm/sec)를 자랑한다. 최적의 증착 균일성(Uniformity)을 최소의 공간(Space)에서 가능하게 해 연구용 장비(100w/hr)가 출시된 즉시 4대가 판매되기도 했다. 이 장비는 오는 11월 중 설치, 운용을 앞두고 있다.

태양광 시장에서 가장 활발하게 은(Silver)과 구리(Copper) 도금(Plating) 기술을 지속적으로 개발, 판매해온 리나는 최근 도금약품 전문기업 맥더미드(Macdermid)사, 레이저 기업 ‘이놀라스(Innolas)사와 기술제휴를 이뤄냈다.

이는 기존 셀렉티브 에미터(Selective emitter)를 뛰어넘는 효율뿐만 아니라 은(Silver) 사용량을 절감을 통한 생산원가 최소화를 동시에 실현하는 안정적인 도금기술을 탄생시켰다.

이 도금기술은 한 마디로 ‘맥더미드(Macdermid)와는 무전해 은(Silver) 도금기술을 통해 ’B 클래스 셀(B class cell)‘을 ’A 클래스 셀(A class cell)‘로 변환함과 동시에 0.2%abs 이상의 효율 향상을 가능케 한다.

이놀라스 레이저(Innolas Laser)와는 새로운 셀렉티브 에미팅(Selective emitting)과 리나(RENA)의 웻 에지 아이솔레이션(Wet edge isolation) 기술을 접목시켜 경제성과 양산 안정성을 동시에 안겨준다.

아울러 이놀라스와 리나의 기술이 더해진 ‘Innolas Dry laser SiNx layer open + RENA Ni/Ag' 도금 기술도 0.8~1% 효율 향상과 30mg/wafer의 은(Silver) 사용량 절감을 실현함으로써 치열한 고효율 태양전지 생산에 해법을 제시하고 있다.


이 같은 기술과 제품에 대한 상세한 설명은 이번 제4회 RENA 기술 세미나에서 공개될 예정이다. 참석 문의는 리나코리아(담당자 조주이, 전화 031-478-9506)로 하면 된다